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  • SU-8光刻胶模具使用的模板一定是环氧树脂SU-8模具。汶颢股份利用光刻技术在涂覆SU-8光刻胶的硅片上制备深宽比高的微结构与微零件,可制作厚度在10-500μ,具有一...2019-10-14 15:00:26
  • Microchem SU-8光刻胶 2000系列SU 8光刻胶系列产品简介:新型的化学增幅型负像 SU- 8 胶是一种负性、环氧树脂型、近紫外线光刻胶,克服了普通光刻胶采用 UV光刻导致的深宽比不足的问题,...2018-03-21 15:40:40
  • SU-8光刻胶2000系列,是国内第一款自主研发的厚胶       光刻胶1959年被发明以来,就成为半导体工业最核心的工艺材料。随后光刻胶改进运用到印制电路板的制造工艺,成为 PCB 生产的重要材料。二十世纪九十年代...2016-09-23 16:05:41
  • 光刻胶材料大家听多了光刻机、蚀刻机以及nm工艺这样的术语,对光刻胶还是十分陌生的。买回来的硅圆片经过检查无破损后即可投入生产线上,前期可能还有各种成膜工艺,然后就进入到涂抹光刻胶环节。微影光刻工艺是一种图形影印...2018-06-05 08:50:37
  • 中国半导体产业因光刻胶失色“假如我们把光刻机比作一把菜刀,那么光刻胶就好比是要切割的菜,没有高质量的菜,即使有了锋利的菜刀,也无法做出一道佳肴。”日前,江苏博砚电子科技有限公司技术部章宇轩在接受记者采访时说。在北...2018-06-04 10:47:32
  • 光刻胶SU-8光刻胶 SU-8光刻胶克服了普通光刻胶采用UV光刻深宽比不足的问题,在近紫外光(365nm-400nm)范围内光吸收度很低,且整个光刻胶层所获得的曝光...2018-03-21 16:05:55
  • SU-8光刻胶产品性能及光刻工艺介绍Tips:汶颢提供不同型号正/负性光刻胶和相关加工设备。SU-8光刻胶以其优异的机械性能、良好的热稳定性和耐腐蚀性,具有自整平、对近紫外光敏感且吸收极小等优点,在MEMS (micro...2018-03-09 08:47:59
  • 微流控SU-8光刻胶的紫外曝光SU-8光刻胶UV曝光的目的是通过部分SU-8光刻胶的PAC(PhotoActiv Component)激活/活化来引发交联。这种活化将会改变SU-8的局部性...2017-12-21 08:58:06
  • 使用匀胶机旋涂微流控SU-8光刻胶微流控PDMS芯片或SU-8模具制作的过程中,需要把PDMS胶或SU-8光刻胶根据所需要的厚度来选择合适的旋涂转速并且使PDMS胶或SU-8胶涂布均匀...2017-12-18 08:59:39
  • 微流控SU-8光刻胶烘烤注意事项在微流控PDMS芯片加工的过程中,需要使用热板对SU-8光刻胶或PDMS聚合物进行烘烤。SU-8光刻胶的烘烤通常需要进行2-3次。本文简要介绍SU-8光刻胶烘烤的注意事项。微流控SU-8光刻胶烘烤:软烘、后...2017-12-18 08:52:46
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